محلول العازل هو نظام عازل محسن لـ HF مع نشاط HF مستقر، مصمم خصيصًا كمذيب انتقائي لـ SiO2 المستخدم في تكنولوجيا أشباه الموصلات. يستخدم في تصنيع الأجهزة المعالجة المستوية مثل الترانزستورات والدوائر المتكاملة والثنائيات والمقومات وSCR وMOS وFET. يتميز بقابلية استنساخ ممتازة للعملية، ولا يسبب تقويض الأكاسيد المعلمة، ولا يلطخ أسطح السيليكون المنتشرة، ويتجنب التلوث على أسطح السيليكون. التركيب الكيميائي مضبوط بدقة من خلال قياسات نشاط HF ودرجة الحموضة الكهربائية، مع الحفاظ على توازن الكتلة والشحنة وفقًا للمعادلات الكيميائية المحددة. يتم إنتاجه بمواصفات خالية من الشوائب مثل أيونات النترات والمعادن الثقيلة.