يستخدم كسلف لترسيب طبقات هافنيوم أكسيد النانوية بالترسيب الذري للطبقات، والتي تستخدم كبديل لأكسيد السيليكون في الأجهزة شبه الموصلة. يرجى الاستفسار عن الكميات الكمية، الأسعار، وخيارات التغليف. تيتراكيس(ثنائي ميثيل أميدو)هافنيوم(IV) هو مركب كيميائي يعمل كسلف لترسيب طبقات هافنيوم أكسيد النانوية بالترسيب الذري للطبقات. تستخدم هذه الطبقات النانوية كبديل لأكسيد السيليكون في الأجهزة شبه الموصلة، مما يوفر أداءً وموثوقية محسنة. <b>يستخدم في صناعة أشباه الموصلات:</b><br/>يستخدم تيتراكيس(ثنائي ميثيل أميدو)هافنيوم(IV) كسلف لترسيب طبقات هافنيوم أكسيد النانوية بالترسيب الذري للطبقات. السبب في التطبيق هو تحسين أداء وموثوقية الأجهزة شبه الموصلة عن طريق استبدال أكسيد السيليكون بطبقات هافنيوم أكسيد النانوية.<br/>للحصول على كميات كبيرة، الأسعار، وخيارات التغليف، يرجى التواصل مع المورد أو المصنع.